НИОПИК - единственный отечественный производитель раствора гидроксида тетраметиламмония

Научно-исследовательский институт органических полупродуктов и красителей запустил в производство тетраметиламмония гидроксида 20-го водный раствор.

Гидроксид тетраметиламмония (ГТМА, TMAH, TMAOH) – четвертичное аммонийное основание, обладающее поверхностно-активными свойствами. Водный раствор ГТМА применяется в литографических процессах в качестве безметального проявителя для пленок фоторезистов (2,38% раствор) и анизотропного травителя для кремния и арсенида галлия (5-25% раствор). Эффективен для удаления фоторезистной маски.

Фоторезист — полимерный светочувствительный материал. Наносится на обрабатываемый материал в процессе фотолитографии или фотогравировки с целью получить соответствующее фотошаблону расположение окон для доступа травящих или иных веществ к поверхности обрабатываемого материала.

В настоящее время НИОПИК является единственным отечественным производителем раствора гидроксида тетраметиламмония. Использование уникальной технологии электрохимического синтеза позволяет получить высококачественный продукт, не уступающий по качеству импортным аналогам.

Раствор рекомендуется в качестве замены импортных безметальных проявителей AZ 326 MIF, AZ 726 MIF, AZ 826 MIF, ТМА 238WA, MF21A и может применяться в качестве безметального проявителя как для отечественных, так и для импортных фоторезистов. Высокое качество ГТМА производства НИОПИК отмечено положительными отзывами потребителей (ОАО «Сатурн», г. Краснодар).